狂野星球工程師技能大全

<狂野星球>工程師的上手難度相對不是特別高，而大家如果充分理解其技能效果相信對于上手這個英雄會更加的得心應(yīng)手，以下為相關(guān)的游戲心得。

Mode 護(hù)甲模式

圖示	技能	詳細(xì)
	殲滅 Eradicate	被動：所有抗性-5%。 主動：開啟殲滅護(hù)甲10秒。 殲滅護(hù)甲：每秒產(chǎn)生10能量。造成直接傷害時，會對目標(biāo)周圍5m內(nèi)3個目標(biāo)造成額外的大量科技傷害，內(nèi)建冷卻2.5秒。
	激怒 Provoke	被動：造成的傷害-20%，受到的傷害-6%。所有抗性+5%，增加最大生命值，仇恨值+275%。 主動：開啟激怒護(hù)甲10秒。 激怒護(hù)甲：每秒產(chǎn)生10能量，受到的傷害降低55%。

Assault 刺殺

刺殺類的技能受Assault Power影響傷害or增益

圖示	技能	詳細(xì)
	散彈 Pulse Blast	造成物理傷害，目標(biāo)上限5，能量產(chǎn)生15。 目標(biāo)靠近中央範(fàn)圍會受到較多的傷害。 T4：能量30~70時，額外產(chǎn)生5能量。 T8：獲得Empower狀態(tài)6秒。 Empower：傷害+9.5%。
	電刑槍 Electrocute	每擊消耗8能量。 每0.5秒造成科技傷害，3秒持續(xù)施展。目標(biāo)上限5。 T4：每一下傷害都會使科技傷害+2.5%，堆疊6次。 T8：持續(xù)時展每一秒鐘，給身邊最近的敵人一個連鎖閃電。 連鎖閃電 (Chain Lighting)：閃電會向周圍目標(biāo)彈跳最多5次，造成科技傷害。
	瞬爆 Quick Burst	造成科技傷害，目標(biāo)上限5. 給予敵人暴擊后才能使用。 T4：穿透目標(biāo)40%護(hù)甲。 T8：能量超過80時，造成更大的科技傷害。
	野砲機(jī)器人 Artillery Bot	召喚一個野戰(zhàn)砲機(jī)器人，每2秒給予1個敵人物理傷害。 [機(jī)器人技能] 高射砲：每0.5秒造成物理傷害，持續(xù)3秒，目標(biāo)上限10，範(fàn)圍為7m指定地面。 一次最多召喚兩種機(jī)器人。 T4：野砲機(jī)器人存在時，你與機(jī)器人獲得Empower，爆擊率+6.5%。 T8：高射砲現(xiàn)在會造成目標(biāo)Snare，移動速度-70%，持續(xù)1秒。
	螺旋鉆 Energy Auger	造成物理傷害，目標(biāo)上限5，產(chǎn)生能量30。會在地下留下一道3秒的焦痕。 踏進(jìn)焦痕內(nèi)的敵人每0.5秒會受到科技傷害。 T4：焦痕會造成敵人Wound，每秒造成額外的科技傷害，持續(xù)3秒。 T8：焦痕會造成敵人Snare，移動速度降低35%，持續(xù)3秒。
	生化砲彈 Bio Shell	發(fā)射一枚飛彈，到達(dá)最遠(yuǎn)射程或是碰到敵人時爆炸。產(chǎn)生能量30。 造成物理傷害，并給目標(biāo)與周圍4個敵人Expose狀態(tài)。 Expose: 科技抗性降低7%，持續(xù)11秒。 110%仇恨值。 T4：能量30~70時，技能變成瞬發(fā)。 T8：爆炸時改成降低護(hù)甲，不會再降低科技抗性。
	迫擊砲 Mortar Strike	消耗能量50。 發(fā)射一枚能量迫擊砲，暴炸中央造成較大的科技傷害，暴炸周圍造成較小的科技傷害，目標(biāo)上限4。 T4：使用螺旋鉆或戰(zhàn)術(shù)空襲會獲得Overcharged狀態(tài)5秒。 Overcharged：使用迫擊砲消耗0能量，且冷卻時間縮短2秒。 T8：受到傷害的敵人會每1秒都會受到持續(xù)傷害，持續(xù)4秒。
	分解彈 Unstable Anomaly	發(fā)射一枚球狀物，到達(dá)最遠(yuǎn)射程或碰到敵人時爆炸。 造成科技傷害并給予周圍5m的4個敵人Wound狀態(tài)。 Wound: 受到的治療量減少30%，持續(xù)10秒。 T4：給予敵人Overload狀態(tài)，使護(hù)盾失效4秒。 T8：對致盲或暈眩的敵人降低75%治療量。
	戰(zhàn)術(shù)空襲 Tactical Strike ※AMP解鎖	每0.25秒給予目標(biāo)1層標(biāo)記，3秒持續(xù)施展。 施法結(jié)束時，依據(jù)目標(biāo)身上的標(biāo)記層數(shù)造成科技傷害，層數(shù)愈多傷害愈高。 標(biāo)記可以標(biāo)在多個目標(biāo)身上，一個目標(biāo)最多12層，每層產(chǎn)生3能量。 T4：當(dāng)目標(biāo)血量超過50%時，造成更大的科技傷害。 T8：每層標(biāo)記在標(biāo)上敵人時造成額外的科技傷害。
	閃電弩砲 Bolt Caster	消耗25能量。 發(fā)射3枚砲彈，每枚砲彈對1個敵人造成物理傷害。 T4：每枚砲彈擊中目標(biāo)時，降低生化砲彈冷卻0.5秒。 T8：當(dāng)目標(biāo)沒有護(hù)盾時，造成更大的物理傷害。

Support 支援

支援類的技能受Support Power影響傷害or增益。

圖示	技能	詳細(xì)
	保鑣機(jī)器人 Bruiser Bot	召喚一個保標(biāo)機(jī)器人，每2秒對身邊5個敵人造成物理傷害。 [機(jī)器人技能] 襲擊: 機(jī)器人朝目標(biāo)處跳撲, 造成物理傷害與中斷敵人施招，并挑釁5個目標(biāo)4秒。 一次最多召喚兩種機(jī)器人。 T4：當(dāng)保鑣機(jī)器人存在時，你與機(jī)器人獲得Defense，迴避率+6.5%。 T8：挑釁時間內(nèi)，保鑣機(jī)器人對控場技免疫。
	亢奮衝擊波 Hyper Wave	造成科技傷害，目標(biāo)上限5，并給予自身Intimidate狀態(tài)。 Intimidate: 成為NPC仇恨值最高的目標(biāo)，并增加仇恨值產(chǎn)生速度100%，持續(xù)4秒。 T4：降低敵人迴避率9%。 T8：受到亢奮衝擊波影響的敵人攻擊你會使你回復(fù)部分生命值，此效果最多1秒觸發(fā)一次。
	對空級加農(nóng)砲 Flak Cannon	每0.5秒造成物理傷害，2.5秒持續(xù)施展。目標(biāo)上限5，每次產(chǎn)生5能量。 仇恨值110%。 T4：能量30~70時，獲得7能量。 T8：能量低于50時，穿透敵人50%護(hù)甲。
	毒瓦斯 Unsteady Miasma	消耗40能量。 發(fā)射一個砲彈，到達(dá)最遠(yuǎn)距離或碰到敵人時爆炸。爆炸時產(chǎn)生一個10m的毒瓦斯區(qū)域8秒，每0.5秒對敵人造成科技傷害，并給予敵人Blunder狀態(tài)。 Blunder: 攻擊打偏的機(jī)率+25%，持續(xù)3秒。 T4：降低對方控場抵抗16%，持續(xù)3秒。 T8：當(dāng)目標(biāo)受到同一毒瓦斯3次影響后，移動速度降低42%，持續(xù)3秒。
	反射 Feedback	造成科技傷害，目標(biāo)上限5。 一個敵人的攻擊在你身上Deflect時才能使用。 T4：當(dāng)反射冷卻時，每一次你Deflect敵人一次攻擊都會使反射冷卻降低0.5秒。 T8：下一個受到的攻擊降低54%傷害。
	彈跳砲彈 Ricochet	對1個敵人造成科技傷害，會彈跳到額外4個敵人。產(chǎn)生20點(diǎn)能量。 仇恨值150%。 T4：能量30~70時，此技能變成瞬發(fā)。 T8：獲得 Defense 狀態(tài)5秒。 Defense：受到的傷害-10%。
	模組破壞槍 Disruptive Module ※AMP解鎖	每秒造成技傷害，持續(xù)6秒。每擊產(chǎn)生5能量，并回復(fù)自身與周圍10m內(nèi)4個隊(duì)友護(hù)盾。 T4：增加你的護(hù)盾緩和量75%，持續(xù)6秒。 T8：如果目標(biāo)被致盲，每次回復(fù)更多的護(hù)盾。
	衝擊砲 Shock Pulse	發(fā)射叁道光束，每道造成物理傷害，給予5個目標(biāo)Snare狀態(tài)，產(chǎn)生10能量。 Snare: 移動速度-10%，持續(xù)5秒，可以堆疊3次。 仇恨值150%。 T4：獲得3層Shock Pulse可以重置衝擊砲的冷卻。 使用迫擊砲：5層。 使用電刑槍：每擊1層。 使用粒子驅(qū)逐槍：每擊1層。 T8：同時命中叁道光束的目標(biāo)，當(dāng)緩速結(jié)束時定身1.25秒。
	粒子驅(qū)逐槍 Particle Ejector	每擊消耗5能量。 每0.5秒對敵人造成物理傷害，3秒持續(xù)施展，目標(biāo)上限5。 仇恨值135%。 T4：每擊降低目標(biāo)護(hù)甲20%，持續(xù)3秒。 T8：能量30~70之間時，造成額外的傷害。
	搗碎衝擊 Thresher	消耗50能量。 對周圍10m內(nèi)的10個敵人造成物理傷害。 T4：使用搗碎衝擊時獲得一個狀態(tài)5秒，此狀態(tài)持續(xù)時搗碎衝擊能量消耗降低50%。 T8：造成傷害的30%轉(zhuǎn)成自己的生命值(吸血的意思)。

Utility 通用

通用技能同時受Assault Power與Support Power影響傷害or增益。

圖示	技能	詳細(xì)
	震擊彈 Zap	造成物理傷害與暈眩，目標(biāo)上限5。 暈眩：操作不能2.5秒，破壞1層超級護(hù)甲。 T4：破壞2層超級護(hù)甲。 T8：降低目標(biāo)爆擊迴避率37.7%。
	緊急后撤 Urgent Withdrawal	充能2次。每11秒充能1次。 造成物理傷害，自身向后跳躍8m，并給予敵人Snare。 Snare：移動速度-28%，持續(xù)4秒，可堆疊2次。 T4：移除定身跟緩速。可充能3次。 T8：使用后1.5秒內(nèi)免疫控場。
	遞迴矩陣 Recursive Matrix	在自身周圍20m創(chuàng)造一個領(lǐng)域10秒，領(lǐng)域內(nèi)的隊(duì)友獲得Defense與Stalwart狀態(tài)。 防衛(wèi)Defense：迴避率+5%。 堅(jiān)定Stalwart：控場抵抗力+20%。 T4：能量30~70時，給予自身與隊(duì)友額外的護(hù)盾，持續(xù)10秒。 T8：敵人傷害在你身上打偏 (Deflect) 時，給予攻擊者物理傷害。
	削弱者機(jī)器人 Diminisher Bot	召喚一個削弱者機(jī)器人。每2秒給予1個敵人科技傷害。 [機(jī)器人技能] 閃光燈：在目標(biāo)處創(chuàng)造一個20m的領(lǐng)域4.05秒，對領(lǐng)域內(nèi)的5個敵人造成每秒科技傷害，并給予範(fàn)圍內(nèi)的所有敵人Snare狀態(tài)。 Snare: 移動速度-45% 一個最多召喚兩種機(jī)器人。 T4：當(dāng)削弱者機(jī)器人存在時，你與削弱者獲得一個狀態(tài)，生命上限+5%。 T8：當(dāng)削弱者機(jī)器人使用閃光燈時，敵人會被拉到範(fàn)圍中心。
	破除禁錮 Shatter Impairment	移除身上的CC技能，并獲得橘護(hù)盾10秒。 T4：獲得Empower，爆擊率+5%，持續(xù)10秒。 T8：清除2個負(fù)面狀態(tài)。
	修復(fù)機(jī)器人 Repair Bot ※AMP解鎖	召喚一個修復(fù)機(jī)器人，每3秒對1個敵人造成科技傷害，并回復(fù)你部份護(hù)盾。 [機(jī)器人技能] 護(hù)盾充能：每秒回復(fù)10m內(nèi)5個隊(duì)友護(hù)盾，持續(xù)4秒。 一次最多召喚兩種機(jī)器人。 T4：當(dāng)修復(fù)機(jī)器人存在時，你與修復(fù)機(jī)器人獲得一個狀態(tài)，護(hù)盾減傷量+15%。 T8：護(hù)盾充能技能賦予Defense狀態(tài)，科技抗性與魔法抗性+17%。
	活性注射劑 Volatile Injection	每秒獲得5能量，持續(xù)10秒。你與周圍4個隊(duì)友獲得10秒的 Defense 與 Empower 狀態(tài)。 Defense：爆擊抵抗率+7%。 Empower：爆擊率+7%。 T4：獲得1層5秒的超級護(hù)甲。 T8：當(dāng)超級護(hù)甲結(jié)束時，回復(fù)額外的護(hù)盾。
	紅色警戒 Code Red	挑釁自身周圍15m內(nèi)的敵人。周圍15m內(nèi)2名隊(duì)友接下來6秒造成的仇恨值25%會轉(zhuǎn)移到你身上。 挑釁：對挑釁者以外的目標(biāo)傷害下降25%，持續(xù)6秒。NPC會攻擊挑釁者。 T4：挑釁時間延長至8秒。 T8：挑釁期間，被挑釁者每秒受到物理傷害。
	個人防衛(wèi)物件 Personal Defense Unit	在指定區(qū)域的地上放置一個道具，道具在地上持續(xù)30秒。 使用道具會給你Defense狀態(tài)5秒，并給予額外的護(hù)盾5秒。 Defense：減傷25%。 T4：充能2次。 T8：使用道具后，每秒回復(fù)生命。
	阻礙震波 Obstructor	對周圍10m內(nèi)5個敵人造成物理傷害，并致盲他們3.75秒。 致盲：視野變差，攻擊命中率降低20%。破壞1層超級護(hù)甲。 T4：給予你與周圍10m內(nèi)4名隊(duì)友1層超級護(hù)甲，持續(xù)3秒。 T8：致盲時間全程結(jié)束時(沒被解掉)，目標(biāo)會被斷招。